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      產品信息
      • 產品名稱: 制粉鍍膜機
      • 上架時間: 2015-06-01
      • 瀏覽次數: 50

      FTZKDM-998真空鍍膜機參數
      真空鍍膜技術基片升溫低,沉積速率高為主要特點,該沉積工藝在電導膜、光學膜、保護膜、
      裝飾膜等諸多方面都有廣泛應用。本設備是集磁控濺射和弧源為一體較為先進的生產設備,
      可生產不同規格的金屬膜產品。
      主要技術指標
      1.  整機外形尺寸:3200*1600*2438mm(長x寬x高)
        真空室外型尺寸:φ998x700mm(有冷水)
      2.極限真空度:6.7x10-4Pa
      3.恢復真空度:清潔空爐由大氣抽至6.7x10-3Pa≤30min
      4.壓升率:1Pa/h(清潔空爐)
      5功率:
         磁控源電源功率:10KVA
         弧電源功率:3KVA
      6.矩形磁控靶材尺寸:384x131x12mm
      7.弧源靶材尺寸:φ100x70mm
      8.烘烤溫度:0~500℃
      9.冷卻水:流量:20~35L/min
      10.充氣系統:質量流量計 3路顯示

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